VL 5 - Übung Flashcards
1
Q
Was sind charakteristische Größen einer Linse?
A
- Form,
- Material,
- Durchmesser d,
- Brennweite f,
- Dicke D.
2
Q
Trotz sorgfältiger Justage ist das Kamerabild von schlechter Qualität. Nennen Sie 4 mögliche
Linsenfehler.
A
Linsenfehler:
- Chromatische Aberration,
- Sphärische Aberration,
- Koma,
- Astigmatismus,
- Bildfeldwölbung,
- Verzeichnung.
3
Q
Wie können Aberrationen korrigiert werden
A
Ein Linsensystem (Achromat) aus Sammellinsen und Zerstreuungslinsen verschiedener Brechzahlen zur Verringerung der chromatischen Aberration.
4
Q
Was bedeutet Lithographie?
A
- Altgriechisch: lithos: „Stein“, graphein: „schreiben“,
- Ursprünglich das älteste Flachdruckverfahren,
- Das Motiv wird seitenverkehrt mit Fettkreide oder -tinte direkt auf eine plan geschliffene
Steinplatte gezeichnet, - Die Platte wird anschließend geätzt,
- An den Stellen, wo sich keine Zeichnung befindet, dringt die Flüssigkeit in die Poren des Steins ein,
- Beim Aufwalzen der Druckerschwärze haftet die Farbe nur an den gezeichneten Linien,
- Der restliche, mit Ätzflüssigkeit behandelte Bereich stößt sie jedoch ab
5
Q
Beschreiben den Prozess der Fotolithographie
A
- Hauptanwendung: Mikrosystemtechnik, Halbleitertechnik,
- Strukturinformation mittels einer Fotomaske übertragen,
- Änderung der chemischen Eigenschaften des Fotolacks durch Belichtung,
- Ätzen gegen Substrat und anschließend gegen Opferschicht
6
Q
Was besagt das Mooresche Gesetz?
A
Mooresches Gesetz besagt, dass die Anzahl der
Transistoren auf einem Chip sich jede 18 bis 24 Monate verdoppelt.
7
Q
Welche zwei gängigen Belichtungsverfahren kennen Sie?
A
- Optische Lithographie,
- Direktbelichtung.
8
Q
Nennen Sie die wesentlichen Unterschiede der EUV-Technologie zur konventionellen optischen
Lithographie
A
- Licht extrem kurzer Wellenlänge von 13,5 nm wird von allen Materialien und Gasen absorbiert,
- Vakuum Strahlengang und reflektive Optik mit λ/4 Bragg Reflektoren,
- Geringe Reflektivität pro Spiegel (ca. 65%) begrenzt die mögliche Zahl optischer Elemente,
- Masken sind reflektiv mit Absorberstrukturen,
- Als Lichtquelle dient Plasmaquelle.
