Kapitel 4 CVD Flashcards
Wofür steht CVD?
und auf deutsch?
Chemmical Vapour Deposition
Chemische Dampfphasenabscheidung
Wie funktioniert CVD?
Bei der Chemical Vapor Deposition wird ein Feststoff aus der Gasphase ausgeschieden, der sich als Adatom am Substrat anlagert.
Die Gasmoleküle zersetzen sich in eine feste und eine Flüchtige Phase
Skizze CVD
Beispiele für CVD Reaktionen
Abscheidung von Siliziumkarbid
Unterscheidung APCVD und LPCVD
Atmospheric Pressure CVD:
Normaldruck, Hohe Abscheiderate, kurze mittlere freie Weglänge, Stofftransport und Oberflächentopographie spielen wichtige Rolle
Low Pressure CVD
Niedriger Druck, mittlere freie Weglänge ist größer als der Abstand der Substrate -> Stofftransport spielt keine wesentliche Rolle
Gleichmäßigkeit der Schichtdicke hängt von Temperaturunterschieden der Substrate ab
Schematischer Vergleich PVD, APCVD, LPCVD
Was ist PECVD?
Von PECVD , Plasma Enhanced CVD spricht man, wenn die notwendige chemische reaktionenergie nicht durch hohe Temperaturen, sondern durch ein Plasma zugeführt wird.
Was ist Epitaxie?
Was ist der Vorteil?
Epitaktisch abgeschiedene Schichten setzen die die Kristallgitter des Substrats übergangslos fort.
Die abgeschiedenen Schichten sind praktisch Spannungsfrei
Vorraussetzung für Epitaxie
Gleiches Atom oder anderes Atom mit gleichem Gitterabstand.
Wofür wird Epitaxie im besonderen Verwendet?
Epitaxie ermöglicht es beispielsweise in der Elektroindustrie gezielt Fremdkörper wie Phosphat oder Bor einzubringen und im Einkristall dotierte Schichten einzubringen.
Skizze Geräte für Epitaxie
Vergleich PVD - CVD
Was ist Plasmapolymerisation?
Warum sind so erzeugte Schichten besonders resistent?
Mit Hilfe eines Plasmas können auch Kunststofffschichten abgeschieden werden.
Durch das Plasma werden schwach gebunndene Monomere wieder abgetragen und es bleiben nur starke Bindungen zurück.
