AULA 7 - Técnicas de preparação Flashcards

1
Q

O que são técnicas Top-down? Cite 3 técnicas:

A

São técnicas que obtém nanomateriais a partir de materiais maiores (volumétricos e particulados).

Técnicas: Litografia; Etching (corrosão); Moagem

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2
Q

O que são técnicas Bottom-up? Cite três técnicas:

A

São técnicas que obtém nanomateriais a partir de átomos ou aglomerados de átomos, agregando estes até chegar no tamanho desejado.

Técnicas: Deposição Química de Vapor; Sputtering; Precipitação

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3
Q

Explique a deposição física de vapor (PVD):

A
  • Material a ser depositado é convertido em vapor;
  • Vapor é transportado da fonte até o substrato
  • Vapor condensa no substrato, formando uma película fina (nanofilmes)
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4
Q

Explique a deposição química de vapor (CVD):

A
  • Uma corrente de gases de reação passa por um forno, que contém o substrato.
  • Os gases fluem perto da superfície aquecida do substrato, sendo adsorvidos e reagindo, formando nanoestruturas.
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5
Q

Explique a evaporação metálica:

A
  • O material é colocado em um cadinho, sendo aquecido até favorecer a evaporação;
  • Em alto vácuo, os vapores são transportados para o substrato.
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6
Q

Explique o SPUTTERING (Deposição Catódica)

A
  • Um material alvo é bombardeado com íons de argônio;
  • Os íons de argônio removem átomos do material e ejeta eles em direção ao substrato
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7
Q

Explique o ETCHING (gravura química)

A

É utilizado para criar características de superfície.

  • Um filme nano é depositado sobre o substrato
  • É aplicado um filme fotoresiste
  • Se coloca uma máscara com o padrão que se quer fazer na superfície e a luz é aplicada (fotolitografia)
  • O padrão é formado e se faz uma corrosão para remover o filme depositado inicialmente naqueles pontos.
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8
Q

Qual a diferença entre Etching úmido e seco?

A

Etching úmido utiliza uma imersão em solução e a corrosão ocorre em todas as direções.

No etching seco, geralmente se utiliza um plasma e a corrosão ocorre apenas na direção específica que se quer.

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9
Q

Explique a fotolitografia:

A

Uma luz é projetado em uma máscara que contem o padrão do circuito.

Quando a luz passa pela máscara, o padrão é projetado no wafer coberto com fotorresiste sensível a luz.

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10
Q

Explique a Soft Lithography:

A

É utilizado um carimbo elastomérico de PDMS com estruturas padronizadas em sua superfície para criar nanoestruturas com baixo custo.

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11
Q

Para que é usado a moagem mecânica?

A

Utilizado para formar nanocompóstios e ligas, a partir de um material em granel

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12
Q

Explique a formação de nanopartículas em solução:

A

É a formação de nanopartículas a partir de uma fase líquida, através da nucleação e crescimento.

Primeiro ocorre o aumento da concentração do monômero até a saturação, iniciando a formação dos núcleos. Após a contínua agregação, são adicionados surfactantes para estabilizar a superfície.

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13
Q

Explique a SINTESE VIA SOL-GEL

A

Um precursor é dissolvido em um solvente, onde ocorrem reações de hidrólise, formando um sol (dispersão coloidal).

O sol é condensado, formando um gel.

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14
Q

Explique a REDUÇÂO QUÍMICA

A

É a redução de sais para a obtenção de suspensões coloidais de nanopartículas de metais. Agentes redutores tipicamento usados são o boroidreto de sódio, citratos e a hidrazina

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