rasini diacrilice compozite Flashcards
forma de prezentare RDC
sisteme bicomponente autopolimerizabilensau duale
sisteme monocomponente pasta
denumiri RDC in sistem bicomponent
P+L
Smile/ Kerr
Evicrol/ Spofa
P+P
Concise/ 3M
Adaptic- fara gravaj
capsule- Compocap, Polycap
denumiri RDC in sistem monocomponent
Compound- godeu
valux-P450
tetric-ceram
herculite
clasificare RDC dupa compozitie
șarjate
neșarjate
clasificare RDC dupa matricea organica
Bis GMA
UDMA
mixte
clasificare RDC dupa larticule umplutura
- clasice- macroumplutura 10-100 micrometri
- microumplutura- 0.01-0.1 micrometri
- hibride(condensate)
elemente componente RDC
SISTEME BIFAZICE
- faza organica (continua)
- faza anorganica (discontinua) umpluta cu ag cuplare
- agenti de cuplare silanici
ce contine faza organica RDC
monomeri de baza
monomeri dilutie
sisteme initiere polimerizare
aditivi
ce sunt monomerii de baz
compusi dimetacrilici, de regula aromatici
masa molec mare
contractie polim mica
capacitate buna umectare tesuturi
cel mai cunoscut monomer de baza
Bis GM =rasina lui Bowen
(bisfenol A glicidil dimetacrilat)
avantaje monomer baza
struct voluminoasa=> contractie polim mica
dezavantaje monomer baza RDC
vascozitate crescuta
masa moleculara mare
alti monomeri de baza in afara de Bis GMA
cu struct asem bis gma- bis MA, bis EMA, bis PMA
struct dif- UDMA
proprietati ideale monomeri de baza
- contractie polimerizare minima
vascozitate+ volatilitate mica
absorbtie redusa apa
aderenta la tes dure dent
toxicitate minima
monomeri de dilutie enumerare
TEGDMA- trietilen glicil dimetacrilat
HEMA- hidroxietil metacrilat
proprietati monomeri dilutie
masa moleculara redusa
vascozitafe redusa
dilueaza monomeri baza vascozitate mare
infl prop RDC in fct de tip si proportie
ce se intampla daca avem monomeri f fluizi sau cant crescuta monomeri dilutie
creste contractia polimerizare
adeziune insuf
adaptare marg deficitara
ce sunt sisteme de initiere a polimerizarii
subst care pun in libertate radicali liberi( polimerizare reticulata, radicalica
initiator autopolimerizare
peroxid de benzoil 0,5-2,5 in baza
acceleratir autopolimerizare
*aminta tertiara aromatica:
n,n- dietanol-paratoluidina 0,5-3,2%
n,n dimetil paratoluidina 0,5-3,2%
initiator fotopolimerizare
CQ= camforochinona 0,2%
eter etilic/ metilic benzidina
agent reducator fotopolimerizare
amina alifatica/ aromatica
N,N dimetil aminoetilmetacrilat DMAEM
aditivi faza organica RDC
<0,5%
inhibitori polimerizare pt pastrare indelungata
stabilizatori UV
coloranti
impuritati
aditiv inhibitor polimerizare RDC
hidrochinona 0,1%
metilfenol