kierunkowe Flashcards
- Budowa obecnie stosowanego układu jednostek miar (układ SI). Klasyfikacja błędów pomiaru.
Układ Si – międzynarodowy układ jednostek miar, oparty na 7 jednostkach podstawowych i 2 uzupełniających, pozostałe jednostki są jednostkami pochodnymi.
7 jednostek podstawowych:
* Metr (m) – jednostka długości
* Kilogram (kg) – jednostka masy
* Sekunda (s) – jednostka czasu
* Amper (A) – jednostka natężenia prądu
* Kelwin (K) – jednostka temperatury
* Mol (mol) – jednostka ilości materii
* Kandela (cd) – jednostka światłości
2 jednostki uzupełniające:
* Radian (rad) – jednostka kąta płaskiego
* Steradian (sr) – jednostka kąta bryłowego
Klasyfikacja błędów pomiaru – błąd pomiaru definiuje się różnicę pomiędzy wynikiem pomiaru, a wartością prawdziwą.
Ze względu na charakter błędu wyróżniamy:
- Błąd systematyczny – błąd powtarzalny; charakterystyczną cechą jest możliwość całkowitego lub częściowego ich usunięcia z wyników pomiarów (Przyczyna – sposób wykonywania pomiarów, takie same warunki pomiarów, używanie tej samej aparatury, prowadzenie pomiarów przez tą samą osobę).
- Błąd przypadkowy – błąd o charakterze losowym; niemożliwym jest przewidzenie jego wartości; możemy go ograniczyć wykonując wielokrotne pomiary i stosowanie średnich jako wyniku ostatecznego (Przyczyna – niedoskonałość zmysłów obserwatora, rozrzut wskazań przyrządów pomiarowych, krótkotrwałe zmiany wielkości wpływowych).
- Błąd gruby – błąd znacznie przewyższający wartość oczekiwaną w danej serii pomiarowej (Przyczyna – niewłaściwe odczytanie wartości, pomyłka w zapisie, źle przeprowadzony pomiar, uszkodzenie aparatury).
Ze względu na warunki fizyczne przeprowadzanych pomiarów:
- Błąd podstawowy – błędy przyrządów pomiarowych.
- Błąd dodatkowy – błędy, których źródłem są zmiany właściwości przyrządów oraz obiektu pomiaru.
- Błąd metody – wynikają z odziaływania przyrządów pomiarowych na obiekt pomiaru.
Wyróżniamy również
- Błąd względny – różni się o wartość przybliżoną (obliczoną) od prawdziwej.
- Błąd bezwzględny – stosunek błędu bezwzględnego do wartości dokładnej.
- Defekty w sieci krystalograficznej, ich systematyka i wpływ na właściwości materiałów (przykłady).
Defekty struktur sieci krystalograficznej to każdego rodzaju odchylenia od idealnej struktury.
- Punktowe – odpowiadają za szybkość dyfuzji atomów w sieci, determinują całkowicie przewodnictwo elektryczne kryształów jonowych i silnie wpływają na ich właściwości optyczne.
- Liniowe – pojawiają się często w rzeczywistych kryształach, wpływają na szybkość wzrostu kryształów i powodują obniżenie wytrzymałości kryształów na ścinanie.
- Powierzchniowe – odpowiadają za umocnienie materiału, tj. wzrost oporu materiału stawiany działającej sile w trakcie odkształcenia plastycznego.
Przykłady każdych z defektów:
* Punktowe – (wakanse, luki, defekt Frankela, defekt Schottky’ego) wynikają z wyjścia atomu na powierzchnie kryształu lub atomy opuszczają węzły w skutek drgań cieplnych.
- Liniowe – inaczej dyslokacje (krawędziowe, śrubowe, mieszane) powstają w wyniku utworzenia się w sieci krystalicznej dodatkowej płaszczyzny atomowej w trakcie krzepnięcia oraz obróbki plastycznej. Wynikają z wprowadzenia ekstrapłaszczyzny, przesunięcia płaszczyzn atomowych lub mogą razem występować w strukturach rzeczywistych.
- Powierzchniowe – (granice ziaren oraz międzyfazowe) możemy podzielić na koherentne, półkoherentne oraz zerwanie koherentności, wynikając z kąta między dwoma sąsiednimi kierunkami krystalograficznymi.
- Definicja epitaksji, klasyfikacja metod epitaksji wytwarzania struktur optoelektronicznych.
Epitaksja – to technika wzrostu nowych warstw materiału na istniejącym podłożu krystalicznym, która powiela układ istniejącej sieci krystalicznej podłoża.
Przy wytwarzaniu struktur optoelektronicznych wyróżnia się 4 główne techniki epitaksjalne:
- LPE (Liquid Phase Epitaxy) – epitaksja z fazy ciekłej. W procesie bierze udział roztwór osadzanego materiału zanurzony w rozpuszczalniku. Uzyskuje się bardzo wysokiej jakości warstwy epitaksjalne: mała ilość defektów strukturalnych i zanieczyszczeń. Jest to metoda czuła termicznie.
- VPE (Vapor Phase Epitaxy) – epitaksja z fazy gazowej. Technika ta pozwala uzyskać dużą szybkość osadzania nowych warst. Osadzać można tylko te pierwiastki, których związki udało się przeprowadzić w stan gazowy – otrzymuje się proste związki półprzewodnikowe typu GaAs czy GaP. Jest to metoda chemiczna, czuła termicznie.
- MBE (Molecular Beam Epitaxy) – epitaksja z wykorzystaniem wiązek molekularnych. technika osadzania cienkich warstw o ściśle określonym składzie chemicznym i precyzyjnym rozkładzie profilu koncentracji domieszki. Możliwe jest to dzięki doprowadzaniu do podłoża składników warstw oddzielonymi wiązkami molekularnymi. Całość procesu odbywa się w komorze w ultra wysokiej próżni.
- MOVPE (Metal Organic Vapor Phase Epitaxy) – epitaksja z fazy gazowej z wykorzystaniem związków metaloorganicznych. Reagenty znajdują się w fazie gazowej. Osadzanie zachodzi przy ciśnieniu atmosferycznym lub obniżonym do 70-100 Tr. Typowa dla tej chemicznej techniki szybkość wzrostu warstw wynosi 15-25 nm/min.
- Dopasowanie energetyczne w obwodzie elektrycznym. Moc czynna i bierna w obwodzie elektrycznym.
Dopasowanie energetyczne – jest to dobór impedancji obciążenia tak, aby przekazać maksymalną moc do obciążenia.
- Moc czynna – średnia moc chwilowa (jednostka Wat [W]), zależy od wartości skutecznej napięcia, prądu oraz od cosinusa przesunięcia fazowego między nimi (współczynnik mocy). Może zamienić się w inny rodzaj mocy np. mechaniczną, cieplną.
- Moc Bierna – iloczyn wartości skutecznej napięcia, prądu i sinusa przesunięcia fazowego między nimi (jednostka Var). Moc bierna nie może zamienić się w inny rodzaj mocy. Moc bierną w obwodach prądu zmiennego pobierają jedynie idealne cewki i kondensatory.
- Doświadczalne podstawy mechaniki kwantowej. Zjawisko fotoelektryczne zewnętrzne.
Doświadczalne podstawy mechaniki kwantowej:
- Dualizm korpuskuralno-falowy – cecha obiektów fizycznych, które w pewnych sytuacja wykazują cechy cząstek, a w innych cechy fal. Mechanika kwantowa przewiduje iż cząstka nie musi zachowywać się tylko i wyłącznie jak fala czy cząstka, lecz może jednocześnie spełniać cechy stanu pośredniego.
- Fale de Broglie’a – de broglie przypisał cząstką materialnym właściwości falowe. Jego teza brzmi: każdej cząstce o całkowitej energii E i pędzie p należy przyporządkować falę o częstotliwości v(ni) i wektorze falowym, które spełniają zależności E = hv i p = ℏk.
- Zasada Nieoznaczoności Heisenberga – Falowa natura materii prowadzi do fundamentalnego ograniczenia dokładności jednoczesnego określenia położenia i pędu cząstki. Zasada nieoznaczoności wynika z faktu, że cząstka jest przyporządkowana do paczki falowej, która ma określoną rozciągłość w przestrzeni. Im większa rozciągłość paczki, tym dokładniej określona jest długość fali (a więc i pęd cząstki), ale jednocześnie mniej dokładnie jest określone jej położenie. Zasada ta łączy niedokładności w określaniu położenia cząstki z niedokładnościami w określaniu składowych jej pędu.
- Efekt tunelowy – Zjawisko przejścia cząstki przez barierę potencjału o wysokości większej niż energia cząstki.
Zjawisko fotoelektryczne zewnętrzne (fotoemisja, efekt fotoelektryczny) – Emisja elektronów zachodząca wskutek absorpcji promieniowania elektromagnetycznego (podczerwonego, widzialnego, nadfioletowego) przez ciało emitujące. Foton padający na ciało powinien mieć energię większa od pracy wyjścia elektronu z danej substancji (warunek Einsteina). Wzór E = h*f (h - stała Plancaka, f – częstotliwość promieniowania)
- Elementy bierne wykonane techniką LTCC – konstrukcja i właściwości rezystorów, cewek i kondensatorów.
LTCC (Low Temperature Co-Fired Ceramics) – to technologia niskotemperaturowej ceramiki współwypalanej, która wykorzystuje elastyczną folie ceramiczną jako materiał podłożowy. Folia o grubości od 50 do 250 μm, składa się z mieszanki ceramiki, szkła i nośnika organicznego. Technologia pozwala na wytwarzanie złożonych układu mikroelektronicznych o wysokim stopniu upakowania i dużej niezawodności.
Zastosowanie elementów biernych w technice LTCC zapewnia dużą gęstość sieci połączeni elektrycznych i małe rozmiary układu. Mają one dobre właściwości w zakresie wysokich częstotliwości i dużych napięć. Są stabilne termicznie i bardzo rzadko występują uszkodzenia katastroficzne.
- Rezystory – wykonane w tej technice dzielą się na:
- Powierzchniowe – wyłącznie rezystory planarne 2D wytwarzane przez bezpośrednie naniesienie pasty rezystywnej na podłoże ceramiczne,
- Zagrzebane – wykonane w postaci rezystora przestrzennego 3D poprzez wypełnienie pastą rezystywną otworu wyciętego w foli ceramicznej.
- Cewki – realizowane są jako elementy powierzchniowe i przestrzenne. W nadrukowanych na folię warstwach przewodzących wycina się laserowo spirale, meandry lub pierścienie. Połączenie kilku warstw z tak wyciętymi uzwojeniami w kształcie spirali pozwala uzyskać cewkę przestrzenną.
- Kondensatory grubowarstwowe – realizowane są najczęściej w układzie trójwarstwowym, dwie metaliczne elektrody oddzielone są warstwą dielektryczną. Zastosowanie podwójnej warstwy dielektryka może ograniczyć ryzyko zwarć.
- Filtry aktywne.
Filtr – urządzenie, który przepuszcza sygnały elektryczne o pewnych częstotliwościach lub przedziałach częstotliwości i blokuje inne sygnały.
Możemy je podzielić na:
Filtry aktywne - układy wykorzystujące wzmacniacze operacyjne w charakterze elementów aktywnych w połączeniu z rezystorami i kondensatorami w celu uzyskania właściwości analogicznych do filtrów RLC. Filtry aktywne RC mogą pracować w szerokim zakresie częstotliwości.
Podział filtrów aktywnych na podstawie typu charakterystyki:
* Filtr Butterwortha – maksymalnie płaska charakterystyka amplitudowa w paśmie przepustowym.
* Filtr Czebyszewa – charakterystyka równomiernie falista, z możliwościa konfiguracji szybkiego spadku pasma przepustowego.
* Filtr Bessela – maksymalnie liniowa charakterystyka fazy, co jest istotne w przypadku sygnałów o zmiennej częstotliwości.
brak zniekształceń przenoszonych sygnałów impulsowych.
W zależności od położenia pasma przepustowego wyróżnia się następujące filtry:
* Dolnoprzepustowy – pasmo przepustowe od częstotliwości f = 0 do częstotliwości granicznej fg.
* Górnoprzepustowy – pasmo przepustowe od częstotliwości granicznej fg do nieskończoności.
* Środkowoprzepustowe (pasmowe) – pasmo przepustowe od częstotliwości granicznej fg1 do częstotliwości granicznej fg2.
* Środkowozaporowe (zaporowe) – pasmo tłumienia od częstotliwości granicznej fg1 do częstotliwości granicznej fg2.
Podział ze względu na strukturę realizacji:
* Filtr Sallen-Key – ze sterowanym źródłem napięciowym, konfiguracja oparta na dwóch operacyjnych kondensatorach.
* Filtry z wielokrotnym sprzężeniem zwrotnym (MFB) – wykorzystują sprzężenie zwrotne, co umożliwia precyzyjną kontrolę charakterystyk.
Dobroć filtra Q – jest parametrem projektowym związanym z rzędem n. Zamiast projektować filtr Czebyszewa rzędu n można to zadanie wyrazić jako projekt filtru Czebyszewa o określonej dobroci Q.
- Generatory drgań sinusoidalnych.
Generator drgań (oscylator) – układ elektroniczny, którego celem jest wytworzenie drgań elektrycznych.
Składa się ze wzmacniacza i obwodu dodatniego sprzężenia zwrotnego podającego sygnał z wyjścia wzmacniacza z powrotem na jego wejście.
O częstotliwości drgań decyduje obwód sprzężenia zwrotnego, o ich amplitudzie – parametry wzmacniacza.
Aby układ rozpoczął generowanie drgań muszą zostać spełnione dwa warunki: amplitudy i fazy.
Amplituda – sygnał na wejściu wzmacniacza podawany z układu sprzężenia zwrotnego musi być na tyle duży, aby na wyjściu wzmacniacza otrzymać sygnał o takim samym lub większym poziomie (tłumienie układu sprzężenia zwrotnego nie może być większe niż wzmocnienie wzmacniacza).
Faza – chwila maksimum sygnału na wejściu wzmacniacza, po przejściu przez wzmacniacz i układ sprzężenia zwrotnego, wypadała zawsze w tym samym momencie (przesunięcie fazy całego układu musi być równe wielokrotności 2π (360⸰)).
Możemy podzielić ze względu na sposób generacji:
* Generatory drgań sinusoidalnych
* Generatory przebiegów niesinusoidalnych (przerzutniki)
* Generatory cyfrowe DDS
W zależności od metody realizacji sprzężenia zwrotnego:
* RC – układ sprzężenia zwrotnego wykorzystujący m rezystory i kondensatory (generator z mostkiem Wiena).
* LC – układ sprzężenia zwrotnego wykorzystujący obwód rezonansowy (generator Meissnera)
Najważniejsze parametry:
Częstotliwość generowanego przebiegu – dla generatorów przestrajalnych określa się również zakres przestrajania.
Stabilność częstotliwościowa – krótko i długoterminowa
Amplituda przebiegu
Stabilność amplitudowa – krótko i długoterminowa
Fluktuacja amplitudy
Zawartość harmonicznych – zniekształcenia nieliniowe
Parametry energiczne – moc i sprawność
- Istota i cele logistyki w inżynierii produkcji.
Logistyka – proces planowania, realizowania i kontrolowania sprawnego i efektywnego ekonomicznie przepływu surowców, podzespołów, wyrobów gotowych oraz informacji.
Inżynieria Produkcji – dziedzina zajmująca się optymalizacja złożonych procesów produkcyjnych, dotyczy zagadnień i problemów związanych z przemysłowym wytwarzaniem produktów.
CEL LOGISTYKI
* Poprawa procesu produkcji i produktu
* Wzmocnienia pozycji rynkowej
* Ograniczenia kosztów
* Maksymalizacji zysków
Bazuje na zasadzie 7R (Right – właściwy)
* Właściwy produkt
* Właściwa ilość
* Właściwa jakość
* Właściwe miejsce
* Właściwy czas
* Właściwy klient
* Właściwa cena
- Jakie rodzaje fal mogą występować w prowadnicach falowych? Sklasyfikować prowadnice falowe na dwie grupy w zależności od rodzaju prowadzonej fali. Jakie kryterium w tym celu należy zastosować?
Prowadnica falowa – układ przewodników lub dielektryków zapewniający propagację fali elektromagnetycznej w określonym kierunku. Kryterium podziału prowadnic falowych jest rodzaj prowadzonych fal, a dokładniej położenie pola elektrycznego i magnetycznego w płaszczyźnie względem kierunku propagacji fali.
Rozróżniamy fale typu:
- TEM – pole elektryczne i magnetyczne leży w płaszczyźnie prostopadłej do kierunku propagacji fali
- E (TM) – pole magnetyczne leży w płaszczyźnie prostopadłej do kierunku propagacji fali
- H (TE)– pole elektryczne leży w płaszczyźnie prostopadłej do kierunku propagacji fali
- EH – żadne z pól nie leży w płaszczyźnie prostopadłej do kierunku propagacji fali
Podstawowy podział prowadnic falowych w zależności od rodzaju prowadzonej fali to:
- TEM lub quasi-TEM – poprzeczne składowe pola elektrycznego i magnetycznego
- TE, TM, EH (falowody)– brak poprzecznych składowych
- Liniowe i nieliniowe zastosowania wzmacniaczy operacyjnych.
Wzmacniacze operacyjne (opamp) – to urządzenia, znajdujące szerokie zastosowanie w różnych aplikacjach analogowych.
Liniowe zastosowania wzmacniaczy operacyjnych:
Wykorzystywane do przetwarzania sygnałów analogowych, gdzie zachowują proporcjonalność i linowość odpowiedzi wzmacniającej.
Przykładowe zastosowania:
* Wzmacniacz odwracający/nieodwracający/sumujący/różnicowy.
* Układ całkujący/różniczkujący.
* Filtry (np. górno- i dolnoprzepustowe)
Nieliniowe zastosowania wzmacniaczy operacyjnych:
Wykorzystywane do realizacji operacji, gdzie charakterystyka wzmacniana nie jest liniowa.
Przykładowe zastosowania:
* Komparator (porównywanie dwóch sygnałów)
* Ogranicznik napięcia (ustawianie maksymalnego lub minimalnego poziomu napięcia)
* Prostownik (zmiana sygnału zmiennego na jednokierunkowy)
* Generator przebiegu prostokątnego/sinusoidalnego
* Wzmacniacz logarytmiczny (generowanie sygnału wyjściowego proporcjonalnego do logarytmu sygnału wejściowego)
- Logika optyczna: podstawowe układy logiki optycznej, bramki optoelektroniczne.
Logika optyczna – realizacja działań i funkcji algebry Boole’a na wiązkach fotonów za pomocą urządzeń optycznych.
Wiązkę światła traktujemy zero-jedynkowo mierząc chwilowe natężenie pola.
Układy logiczne w pełni optyczne wykorzystują do przełączania światła jedynie fotony.
Logiczne bramki optyczne – wykorzystują nieliniowe zjawiska optyczne (układy pasywne) i/lub wzmacniacze optyczne (układy aktywne).
wykorzystuje efekt Kerra i dwukanałowy kierunkowy powielacz optyczny.
Efekt Kerra – Zmiana właściwości ośrodka (współczynnik załamania światła) w zależności od przyłożonego pola elektrycznego. Wstępuje jedynie w ośrodkach nieliniowych.
Optyczny powielacz kierunkowy – wykorzystują dwa równoległe światłowody o zbliżonych parametrach.
Przy zgodności fazowej ośrodków obu torów, sygnał zostaje w pełni przekazany do kanału drugiego.
Kiedy jednak wystąpi niezgodność faz, sygnał może być przekazany częściowo lub nie przekazany wcale.
W ten sposób oddziałując wiązką fotonów, możemy przełączać stany logiczne światła.
Bramki
AND
OR
NOT
NOR
- Mechanizmy przewodnictwa opisujące charakterystykę R = f(T) grubowarstwowych rezystorów cermetowych.
Rezystory cechują się najniższą rezystancją w temperaturze pokojowej. Dla wyższych temperatur rezystancja rośnie wraz z jej wzrostem, a dla niższych rośnie wraz z jej spadkiem.
Mechanizmy przewodnictwa:
kontaktu metalicznego – występuje między dwoma ziarnami mającymi kontakt fizyczny. Kontakt mechaniczny jest źródłem szumów. Rezystancja jest niestabilna w czasie.
hoppingowe (skokowe) – nośniki nie poruszają się swobodnie po całym ciele w paśmie walencyjnym, ale przeskakują pomiędzy konkretnymi miejscami w strukturze materiału, tak zwanymi stanami zlokalizowanymi. Zachodzi dla większych odległości.
- Metoda cyfrowa pomiaru częstotliwości i okresu sygnałów elektrycznych. Jakie są najistotniejsze czynniki wpływające na błąd pomiaru.
Pomiar okresu (metodą cyfrową) – badany przebieg jest przetwarzany na sygnał impulsowy.
Czas każdego impulsu jest równy okresowi Tx przebiegu badanego.
Impuls ten otwiera bramkę na czas pomiaru.
Gdy bramka jest otwarta, zliczane są impulsy z generatora wzorcowego o częstotliwości fw = 1/Tw.
W czasie pomiaru licznik zliczy N = Tx/Tw.
Wartość zmierzonego okresu wynosi: Tx=N*1/fw
Pomiar częstotliwości (metodą cyfrową) – badany przebieg o częstotliwości fx przetwarzany jest na przebieg impulsowy o takiej samej częstotliwości.
Generator wzorcowego odcinka czasu wytwarza impuls o czasie trwania Tn otwierającego bramkę na czas pomiaru.
W czasie, gdy bramka jest otwarta, licznik zliczy N = Tn/Tx impulsów.
Ponieważ fx = 1/Tx zmierzona częstotliwość wynosi:
fx = N*1/Tn
Główne źródła błędów w cyfrowych pomiarach częstotliwości:
* Błąd zliczania (kwantowania) – występuje gdy długość impulsów bramkujących nie jest całkowitą wielokrotnością zliczanych okresów. Liczba zliczonych impulsów uzależniona jest od położenia impulsu bramkującego.
* Błąd częstotliwości generatora wzorcowego – częstotliwość ta może odbiegać od częstotliwości znamionowej, może również zmieniać się w czasie pracy np. w wyniku wahań temperatury lub starzenia elementów.
* Błąd bramkowania – wynika z różnicy opóźnienia miedzy zboczem narastającym i opadającym impulsu bramkującego.
Różnica ta powoduje różnicę w opóźnieniu chwili otwarcia i zamknięcia bramki. Błąd jest również spowodowany zakłóceniami występującymi w badanym przebiegu.
- Metody obliczania błędu granicznego w pomiarach złożonych.
Błąd graniczny w pomiarach złożonych -
Największa możliwa wartość błędu wskazania przyrządu w dowolnym punkcie zakresu pomiarowego.
Metody obliczania błędu granicznego obejmuje:
sumowanie maksymalnych wartości bezwzględnych błędów poszczególnych, składowych pomiarowych lub sumowanie kwadratów błędów, a także wykorzystanie reguł propagacji błędów w przypadku wyników obliczanych na podstawie pomiarów.
- Metody pomiaru piezoelektryków.
Zjawisko piezoelektryczne proste – polega na powstawaniu ładunków elektrycznych w wyniku deformacji kryształu.
Zjawisko piezoelektryczne odwrotne – polega na zmianie wymiarów kryształów pod wpływem przyłożonego pola elektrycznego.
Metody pomiaru piezoelektryków możemy podzielić na:
* Statyczne
o pomiar modułu piezoelektrycznego d – mierzy się generowany ładunek elektryczny w odpowiedzi na przyłożony nacisk lub zmianę pola elektrycznego
* Dynamiczne
o pomiar przenikalności elektrycznej – analizuje zmiany przenikalności dielektrycznej w zależności od częstotliwości pobudzenia, co umożliwia określenie przenikalności εT (przy polu stałym) i εS (przy zmiennym polu).
o pomiar współczynnika sprzężenia elektromechanicznego – określa efektywność przekształcania energii podczas wymuszonych drgań mechanicznych lub elektrycznych
* Wyznaczenie pozostałych współczynników z wykorzystaniem obu metod pomiarowych
o pomiar stałej napięciowej
o pomiar współczynnika sprężystości
- Metody pomiaru parametrów rozproszonych elementów biernych (RLC).
RLC – elementy powszechnie stosowane w budowie urządzeń elektrycznych i elektronicznych, czyli rezystory, kondensatory i cewki indukcyjne. Parametry tych elementów mierzy się różnymi metodami i z różną dokładnością.
- Metoda mostkowa:
-Mostek Wheatstone’a – Do pomiaru rezystancji. Składa się z czterech rezystorów tworzących mostek, z których jeden jest elementem badanym.
-Mostek Maxwella – wykorzystywany do pomiaru indukcyjności, w którym stosuje się znaną pojemność i rezystancje do równoważenia mostka.
-Mostek Wiena – Do pomiaru pojemności. Opiera się na równoważeniu pojemności i rezystancji.
* Metoda rezonansowa – Pomiar częstotliwości rezonansowej obwodu LC. Znając częstotliwość rezonansową i wartość jednego z elementów (L lub C), można obliczyć drugi parametr.
- Metoda impedancyjna – pomiar impedancji przy różnych częstotliwościach pozwala na wyznaczenie wartości R, L i C elementu biernego. Analiza częstotliwości pozwala na określenie charakterystyki impedancyjnej badanego elementu.
- Metoda oscyloskopowa – połączenie elementu do oscyloskopu i analizie przebiegu napięcia oraz prądu. Na podstawie różnic fazowych i amplitud można wyznaczyć parametry RLC.
- Zastosowania piezoelektryków.
Piezoelektryki znajdują zastosowanie jako rezonatory w generatorach i stabilizatorach częstotliwości, przetworniki drgań w urządzeniach medycznych i przemysłowych, mikrosiłowniki w mikrorobotyce oraz w różnorodnych urządzeniach wykorzystujących efekty drgań i fal. Ich unikalne właściwości mechaniczno-elektryczne sprawiają, że są nieocenione w wielu nowoczesnych technologiach
- Metody pomiaru wartości skutecznej napięcia sygnałów zmiennych.
Wartość skuteczna (RMS – Root Mean Square) określa parametry energetyczne sygnału. Wartość skuteczna sygnału przemiennego jest równa wartości sygnału stałego, który powoduje takie same skutki energetyczne (efekt cieplny – ciepło Joule’a) jak sygnał przemienny.
Wzór ten pozwala wyznaczyć Usk dla dowolnego sygnału okresowego. Rozwiązanie to stosowane jest w miernikach wyższej klasy oznaczonych jako True RMS.
Metody pomiaru wartości skutecznej:
-
Pomiar za pomocą przyrządów cieplnych –
Jeden z rezystorów jest zasilany mierzonym przebiegiem, drugi regulowanym napięciem stałym.
Polega na regulacji wartości napięcia stałego tak, aby temperatury w obu rezystorów były jednakowe.
Na wyjściu takiego przetwornika występuje napięcie odpowiadające wartości skutecznej wejściowego przebiegu zmiennego. -
Pomiar za pomocą przetworników analogowych –
analogowe układy realizują operacje potęgowania, całkowania (uśredniania) oraz pierwiastkowania zgodnie ze wzorem na wartość skuteczną sygnałów okresowych. -
Pomiar za pomocą mierników cyfrowych (multimetry i oscyloskopy) –
sygnał wejściowy zamieniany jest na postać cyfrową, a następnie obliczana jest wartość skuteczna mierzonego napięcia.
Współczesne multimetry są wyposażone w operacyjne przetworniki wartości skutecznej i wynik pomiaru reprezentuje prawdziwą wartość skuteczną badanego sygnału. Oznaczone są jako True RMS. -
Współczynnik kształtu – Definiowany jest jako stosunek wartości skutecznej do wartości średniej (półokresowej) danego przebiegu.
Mierniki mierzą napięcie średnie badanego przebiegu, a następnie za pomocą odpowiedniego współczynnika kształtu, zamieniają wynik pomiaru na wartość skuteczną.
- Metody stało- i zmiennoprądowego pomiaru właściwości materiałów i elementów elektronicznych.
Stałoprądowe metody są przydatne do pomiarów bezpośrednich właściwości rezystancyjnych i charakterystyki prądowo-napięciowej.
zmiennoprądowe metody pozwalają na analizę dynamicznych właściwości materiałów, takich jak:
impedancja,
pojemność,
indukcyjność, w szerokim zakresie częstotliwości.
Metody stałoprądowe:
- Pomiar rezystancji(metoda czteropunktowa) – prąd przepuszczany jest przez dwa zewnętrzne styki, a napięcie mierzone na dwóch wewnętrznych stykach. Stosowana przy niskich rezystancjach.
* Pomiar charakterystyki I-U – pomiar prądu płynącego przez element w funkcji przyłożonego napięcia.
* Pomiar efektu Halla – metoda ta wykorzystuje efekt Halla, gdzie w materiale przepływającym prądem w obecności pola magnetycznego powstaje poprzeczne napięcie (napięcie Halla). Pomiar tego napięcia pozwala na określenie koncentracji nośników ładunku oraz ich ruchliwości.
* Pomiar temperatury – wykorzystuje zmiany rezystancji materiału w funkcji temperatury.
Metody zmiennoprądowe:
- Pomiar impedancji(LCR meter) – LCR meter to urządzenie pomiarowe, które mierzy impedancję elementów w szerokim zakresie częstotliwości. Na podstawie pomiarów można określić wartości rezystancji (R), indukcyjności (L) i pojemności (C).
* Spektroskopia impedancyjna – badanie odpowiedzi elektrycznej obiektu na małe sygnały elektromagnetyczne w szerokim zakresie częstotliwości.
* Pomiar współczynnika strat dielektrycznych – mierzenie strat energii w dielektryku pod wpływem zmiennego pola elektrycznego. Straty dielektryczne są związane z absorpcją energii przez materiał i konwersją tej energii na ciepło.
* Pomiar współczynnika sprzężenia magnetycznego – ocenia sprzężenie magnetyczne w transformatorach i cewkach.
* Pomiar indukcyjności i pojemności metoda rezonansową – określa indukcyjność lub pojemność na podstawie częstotliwości rezonansowej obwodu LC.
* Analiza Fouriera sygnałów zmiennoprądowych – rozkład sygnału zmiennoprądowego na składowe częstotliwości za pomocą transformacji Fouriera.
- Metody uczenia sieci neuronowych.
Sieć neuronowa jest złożonym systemem połączonych neuronów, który może przetwarzać dane i uczyć się na ich podstawie, imitując pewne funkcje ludzkiego mózgu.
Wyróżniamy trzy metody uczenia sieci neuronowych:
* Uczenie z nauczycielem
o Obiekty wzorcowe na wejściu
o Porównanie wyjścia z wzorcowymi odpowiedziami i ewentualna korekcja wag
o Sieć uczy się wzorców „na pamięć” oraz nabywa zdolność uogólniania wiedzy
o Wagi zmieniają się w celu dopasowania działania do wielu wzorców
* Uczenie bez nauczyciela (samouczenie)
o Obiekty wzorcowe na wejściu
o Brak wzorców na wyjściu
o Sieć zmienia wagi na podstawie obserwacji otoczenia i interpretacji odebranych sygnałów. Sieć sama odkrywa znaczenie sygnałów i sama ustala zachodzące między nimi zależności.
o Uczenie jest wolniejsze, niż z nauczycielem oraz aby nauczyć się takich samych wzorców jak z nauczycielem, sieć musi być większa.
* Pośrednia
o Uczenie z trenerem
o Podobna do nauki z nauczycielem
o Nie porównuje się otrzymanych wyjść do wzorców, w zamian sieć otrzymuje podpowiedzi z zewnątrz, jakie skutki daje zmiana wag, pozytywne czy negatywne.
Sieć jest nauczona w momencie osiągnięcie minimalnego błędu określonego przed uczeniem, w momencie kiedy istnieje ryzyko przeuczenia sieci (błąd zaczyna rosnąć) oraz gdy istnieje ryzyko z osiągnięciem wartości docelowej błędu.
- Mikrosystemy ruchome: metody wywoływania ruchu w mikroskali, podstawowe mikrokonstrukcje i ich obszary zastosowania.
Mikrosystemy MEMS są urządzeniami mechaniczno-elektrycznymi, które składają się z zintegrowanych podzespołów mikromechanicznych i mikroelektronicznych. Podzespoły mikromechaniczne są trójwymiarowe i wykonane z materiałów takich jak krzem, szkło, ceramika czy polimery.
Metody wywoływania ruchu w mikroskali:
* Zjawisko odwrotnie piezoelektryczne: Wykorzystuje się zmiany wymiarowe materiałów piezoelektrycznych pod wpływem pola elektrycznego.
* Przyciąganie elektrostatyczne: Elektrody generują siłę przyciągania lub odpychania w odpowiedzi na zmiany napiecia między nimi.
* Indukcja elektromagnetyczna: Wykorzystuje siłę elektromagnetyczną do generowania ruchu poprzez przyciąganie elementów metalowych.
* Rozszerzalność cieplna: Wykorzystuje zmiany wymiarowe materiałów pod wpływem zmiany temperatury, aby wywołać ruch.
* Zjawisko elektrotermiczne: Generuje ruch przez podgrzewanie materiałów o wysokiej rezystywności.
* Odkształcenie przez ciśnienie membrany krzemowej: Wykorzystuje odkształcenie membrany krzemowej pod wpływem ciśnienia, aby wywołać ruch.
* Ruch wywołany przepływem gazu: Wykorzystuje siłę generowaną przez przepływ gazu w mikrokanalach lub mikroszczelinach.
Przykłady zastosowań mikrosystemów ruchomych:
* Mikrosiłowniki
* Narzędzia chirurgiczne
* Przekładnie obrotowe, liniowe, parowe
* Mikroczujniki
* Mikrosilniki obrotowe, liniowe, parowe
* Mierniki przepływu z turbinami
* Silniki rakietowe i odrzutowe
* Mikrozawory
* Aplikacje w telekomunikacji
- Modyfikacja właściwości warstw powierzchniowych - systematyka tych warstw, metody ich otrzymywania.
Systematyka warstw powierzchniowych:
Warstwy wierzchnie: Ograniczone powierzchnią obrabianego elementu, charakteryzujące się innymi właściwościami niż materiał rdzenia, uzyskane dzięki działaniu sił mechanicznych, cieplnych, elektrycznych oraz czynników chemicznych.
Powłoki: Trwałe warstwy nanoszone na powierzchnię podłoża, wykonane z metalu, stopu, materiału ceramicznego, polimerowego lub innych, w celu nadania określonych właściwości.
Podział ze względu na grubość:
* Warstwy grube: Powyżej 1 μm.
* Warstwy cienkie: Poniżej 1 μm.
Zastosowania warstw:
* Antykorozyjne, dekoracyjne, zwiększające twardość, przewodność elektryczną lub cieplną.
Metody pozyskiwania warstw:
* Anodyzacja: Elektrolityczne osadzanie warstw tlenków, często stosowane do aluminium.
* Galwanizacja: Elektrolityczne osadzanie cienkich warstw metalicznych na powierzchni metalowej, np. miedzi na metalu.
* CVD (Chemiczne osadzanie z fazy gazowej): Tworzenie nowej warstwy materiału na ogrzewanym podłożu przez reakcje chemiczne z fazy gazowej. Na tworzenie warstw i ich właściwości wpływają takie parametry jak ciśnienie, skład gazu wprowadzanego do układu, czystość reagentów, przygotowanie powierzchni materiału.
* Epitaksja: Wzrost nowej warstwy monokryształu na istniejącym podłożu krystalicznym, powiela strukturę sieci krystalicznej podłoża.
* Implantacja jonów: Domieszkowanie materiałów poprzez nadanie energii jonom w polu elektrycznym i ich zderzenie z materiałem, co zmienia jego strukturę krystaliczną. Jony uderzając w półprzewodnik niszczą jego strukturę krystaliczną.
* PVD (Fizyczne osadzanie z fazy gazowej): Osadzanie warstwy z fazy gazowej przy niższym ciśnieniu, wykorzystujące procesy fizyczne do uzyskania par osadzonych.
Podział ze względu na metody otrzymywania:
* Cieplne – oddziaływanie ciepła na powierzchnie w celu wprowadzenia zmian w strukturze (hartowanie, napawanie).
* Mechaniczne – działanie energią kinetyczną narzędzia lub cząstek w celu umocnienia warstwy wierzchniej na zimnym podłożu (nagniatanie).
* Cieplno-mechaniczne – oddziaływanie ciepła i nacisku (natryskiwanie, platerowanie).
* Cieplno-chemiczne – oddziaływanie ciepła i aktywnego chemicznie ośrodka w celu pokrycia obrobionego materiału dla spowolnienia zmian struktury w podwyższonej temperaturze (CVD, nasycanie, stopowanie).
* Fizyczne – osadzanie powłok adhezyjnych w warunkach podwyższonego ciśnienia lub obniżonego ciśnienia (PVD, implementacja jonów).
* Chemiczne i elektromechaniczne – bezpośrednie nakładanie materiału niemetalicznego lub metalowego na powierzchnie obrabianego elementu i usuwanie zanieczyszczonej lub utlenionej warstwy powierzchniowej w procesie trawienia lub polerowania (osadzanie elektrolityczne, trawienie).
- Na czym polega modulacja światła mikrofalami? Podać przykłady realizacji modulatora elektrooptycznego
Modulacja światła mikrofalami:
Polega na zmianach parametrów fali świetlnej w czasie.
Mikrofale wykorzystane do modulacji światła poprzez generowanie rezonansu,(zmiana współczynnika załamania materiału optycznego), przez który przechodzi wiązka światła.
Zmiany te mogą obejmować modulację amplitudy i/lub częstotliwości sygnału świetlnego.
-
Przykład realizacji modulatora elektrooptycznego:
Przykładem modulatora elektrooptycznego jest modulator Mach-Zender’a.
Działa on na zasadzie efektu Pockelsa, który opisuje zależność współczynnika załamania światła w materiale od natężenia pola elektrycznego.
W modulatorze Mach-Zender’a, przyłożenie napięcia do materiału elektrooptycznego zmienia współczynnik załamania światła. Ta zmiana powoduje regulację drogi optycznej w materiale, co z kolei umożliwia modulację fali świetlnej.